КАРТОЧКА ПРОЕКТА ФУНДАМЕНТАЛЬНЫХ И ПОИСКОВЫХ НАУЧНЫХ ИССЛЕДОВАНИЙ,
ПОДДЕРЖАННОГО РОССИЙСКИМ НАУЧНЫМ ФОНДОМ

Информация подготовлена на основании данных из Информационно-аналитической системы РНФ, содержательная часть представлена в авторской редакции. Все права принадлежат авторам, использование или перепечатка материалов допустима только с предварительного согласия авторов.

 

ОБЩИЕ СВЕДЕНИЯ


Номер 21-72-00032

НазваниеТеоретическое исследование и численное моделирование механизмов роста некосселевских кристаллов и тонких плёнок

РуководительРедьков Алексей Викторович, Кандидат физико-математических наук

Организация финансирования, регион федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт проблем машиноведения Российской академии наук, г Санкт-Петербург

Период выполнения при поддержке РНФ 07.2021 - 06.2023 

Конкурс№60 - Конкурс 2021 года «Проведение инициативных исследований молодыми учеными» Президентской программы исследовательских проектов, реализуемых ведущими учеными, в том числе молодыми учеными.

Область знания, основной код классификатора 02 - Физика и науки о космосе, 02-201 - Теория конденсированного состояния

Ключевые словакристалл, теория, рост, ступени, терраса, диффузия, эволюция, дефекты, дислокация, некосселевский, многокомпонентный, Гилмер-Гез-Кабрера, Пимпинелли, вакансии, морфологическая устойчивость

Код ГРНТИ29.19.03


СтатусУспешно завершен


 

ИНФОРМАЦИЯ ИЗ ЗАЯВКИ


Аннотация
Проект направлен на расширение современной теории роста кристаллических материалов на многокомпонентные системы, и является логическим продолжением и развитием проекта РНФ №19-72-00082. В проекте исследуются различные не изученные ранее механизмы роста и эволюции так называемых некосселевcких кристаллов - сложных кристаллических соединений, ячейка которых содержит несколько различных типов атомов в неэквивалентных позициях. Большая часть полупроводниковых материалов, используемых в современной электронике, относится именно к таким соединениям. Среди этих материалов можно упомянуть карбид кремния, нитриды алюминия и галлия, иные полупроводники групп III-V и II-IV, а также многие другие кристаллы и кристаллические плёнки, используемые, например, для создания оптических фильтров или покрытий. Следует отметить, что основной теоретический задел по росту кристаллов, полученный к настоящему моменту, посвящен простым косселевским кристаллам, состоящих из атомов одного сорта. Такой подход существенно облегчает рассмотрение всех ростовых задач и подбор параметров теоретических моделей из экспериментальных данных. В связи с этим, для описания ростовых экспериментов зачастую используются однокомпонентные кинетические модели, несмотря на то, что сами эксперименты ставятся на многокомпонентных кристаллах (KCNSH, GaN, AlN и т.д.). И действительно, однокомпонентные модели зачастую имеют хорошую описательную силу при выборе соответствующих «эффективных» параметров: «средний» коэффициент диффузии, атомарный объем, энергия активации зарождения и миграции адатома и т.д. Несмотря на этот факт, очевидно, что в реальном многокомпонентном кристалле у адатома каждого из компонентов эти параметры различаются, и существенное изменение ростовых условий приводит к необходимости заново подбирать «эффективные» параметры однокомпонентной ростовой модели, которые будут хорошо описывать процесс роста. Таким образом, крайне актуальна задача расширения существующих для однокомпонентных систем теорий на многокомпонентный случай. Новизна и сложность этой задачи состоит в том, чтобы правильно учесть влияние каждого компонента на конечные «эффективные» параметры системы и получить аналитические выражения, связывающие свойства отдельных компонентов, ростовые условия и скорость роста кристалла как целого. Несмотря на то, что автору настоящего проекта уже удалось достичь некоторых успехов по этому направлению в проекте РНФ №19-72-00082, и пролить свет на рост многокомпонентных кристаллов по ряду важных механизмов, например, Чернова и Бартона-Кабреры-Франка [1], остается множество неисследованных механизмов и факторов, которые могут оказать существенное влияние на процесс роста многокомпонентного кристалла. К настоящему моменту, остаются неисследованными, например, наиболее общий и сложный механизм Гилмера-Геза-Кабреры - механизм роста кристалла из собственных паров или раствора, при котором вещество может поступать к ступени на поверхности кристалла согласованным образом как за счет диффузии по поверхности, так и из объема. Также в работах Пимпинелли и других [2], было обнаружено, что существенный вклад в рост кристалла дают поверхностные вакансии, которые обеспечивают дополнительный канал поступления адатомов к ступеням. Неизученным остается и влияние барьера Эрлиха-Швобеля, который для каждого компонента, очевидно, различен, что может привести к различного рода неустойчивостям и эффектам на поверхности растущего кристалла. Отметим, что несмотря на активный интерес исследователей к росту многокомпонентных кристаллов и растущее число работ по этому вопросу, до сих пор для указанных выше и многих других явлений нет теорий и моделей, которые позволили бы описать рост кристалла при наличии нескольких компонентов, и понять, как соотношение компонентов и их индивидуальные свойства влияют на процесс роста, какие можно при этом наблюдать явления, и как управлять процессом. В настоящем проекте будет продолжена ранее начатая автором работа по расширению однокомпонентных теорий на многокомпонентный случай, и будет рассмотрен ряд матфизических задач о росте и эволюции некосселевского кристалла в рамках модели терраса-ступень-излом. Будет детально изучен механизм Гилмера-Геза-Кабреры, и найдены выражения для скорости роста многокомпонентного кристалла по этому механизму в зависимости от ростовых условий и свойств отдельных компонентов (длины свободного пробега, энергии, атомарных объемов и т.д.), температуры и пересыщения. Будет исследована роль поверхностных вакансий различных компонентов в росте кристалла, обнаруженная Пимплинелли и коллегами, и найдена скорость роста кристалла с учетом этого фактора. Также будет детально проанализировано влияние барьера Эрлиха-Швобеля на процесс роста. Отметим, что в процессе выполнения проекта №19-72-00082 с помощью метода молекулярной динамики был численно выявлен и охарактеризован числом очевидный из общих соображений факт, что на гранях многокомпонентного кристалла различной ориентации процессы диффузии и встраивания различных компонентов протекают по разному, из-за чего различается скорость роста разных граней. Потому от формы (габитуса) и соотношения площадей различных граней растущего кристалла зависит общая скорость его роста (скорость увеличения его объема). В свою очередь, квазиравновесная форма растущего кристалла зависит как от общего пересыщения, так и от пересыщения по отдельным компонентам. Для изучения этого явления в настоящем проекте будет уделено внимание моделированию роста реальных многокомпонентных кристаллов методом Монте-Карло в специализированном пакете CrystalGrower [3], выпущенным в 2020 году именно для этих целей, который позволяет изучать зависимость от пересыщения как формы в макро-масштабе, так и микро-морфологию кристалла, в том числе, в процессе спирального роста. Проведение подобных расчетов могло бы позволить найти ключ к связи термодинамически стабильной формы и кинетической формы, реализующейся в процессе роста мультикомпонентного кристалла. [1]Redkov, A. V., & Kukushkin, S. A. (2020). Development of Burton–Cabrera–Frank Theory for the Growth of a Non-Kossel Crystal via Chemical Reaction. Crystal Growth & Design, 20(4), 2590-2601. [2] Pimpinelli, A., & Villain, J. (1994). What does an evaporating surface look like? Physica A: Statistical Mechanics and Its Applications, 204(1-4), 521–542. doi:10.1016/0378-4371(94)90446- [3] M. W. Anderson, J. T. Gebbie-Rayet, A. R. Hill, N. Farida, M. P. Attfield, P. Cubillas, V. A. Blatov, D. M. Proserpio, D. Akporiaye, B. Arstad and J. D. Gale; Predicting crystal growth via a unified kinetic three-dimensional partition model. Nature, 544, 456–459 (2017)

Ожидаемые результаты
В рамках выполнения проекта ожидаются следующие результаты: 1)Решена задача о росте идеального некосселевского N-компонентного кристалла по механизму Гилмера-Геза-Кабреры из паров или раствора собственных компонентов, при одновременной диффузии вещества к ступени как по поверхности террасы, так и из объема. Найдены аналитические выражения для скорости движения ступеней. Получены выражения для скорости роста кристалла как за счет движения ряда параллельных ступеней, так и по спиральному механизму. При выводе уравнений учтена разница в свойствах (коэффициентах диффузии по поверхности и в объеме, атомарных объемах) различных компонентов, составляющих некосселевский кристалл. 2) На основании формализма, предложенного Пимпинелли, исследовано влияние поверхностных вакансий на рост многокомпонентного некосселевского кристалла из собственных компонентов, найдены выражения для скорости перемещения ступеней, и скорости роста кристалла при наличии поверхностных вакансий с учетом разницы в свойствах (коэффициентах диффузии по поверхности, атомарных объемах) различных компонентов, составляющих некосселевский кристалл. 3) Изучен процесс движения ступени по поверхности некосселевского кристалла в режиме БКФ, в случаях, когда скорость её перемещения достаточно велика (при повышенных пересыщениях) и не может быть не учтена. Проанализирован вклад конвективного и диффузионного потока адатомов в ступень при различных числах Пекле и соотношениях потоков компонентов на поверхность. Предложен и реализован алгоритм для нахождения зависимости скорости перемещения ступени от свойств индивидуальных компонентов и ростовых условий, и проанализированы явления, имеющие место в таком процессе. 4) В рамках классической модели терраса-ступень-излом исследовано влияние барьера Эрлиха-Швобеля и его различия для разных типов адатомов на рост идеального N-компонентного некосселевского кристалла. Решен ряд задач математической физики и найдены выражения для скорости продвижения ступеней по поверхности кристалла, и нормальной скорости роста всего многокомпонентного кристалла с учетом свойств всех отдельных компонентов. 5) Проведено численное моделирование ростовой формы и габитуса отдельных, наиболее актуальных в современной электронике кристаллов различных кристаллических решеток и политипов (GaN, 6H-SiC) в пакете CrystalGrower при различных температурах, пересыщениях и соотношениях концентраций отдельных компонентов. Проанализированы условия, при которых реализуются различные механизмы роста: спиральный рост, моно-нуклеарный рост, полинуклеарный рост. Полученные результаты существенно расширяют полученный автором ранее в рамках гранта РНФ №19-72-00082 теоретический задел, позволяют описать рост многокомпонентных кристаллов по наиболее сложным ростовым механизмам (Гилмер-Гез-Кабрера) и учесть ранее не исследованные, но оказывающие большое влияние на рост кристалла явления (поверхностные вакансии, барьер Эрлиха-Швобеля, конечная скорость движения ступени). Результаты, как надеется автор, позволят глубже понять процессы роста некосселевских кристаллов и будут полезны с фундаментальной точки зрения. Помимо этого результаты будут полезны и с прикладной точки зрения, поскольку полученные выражения, связывающие скорость роста кристалла и ростовые условия, а также понимание вклада упомянутых выше явлений (поверхностные вакансии, конечная скорость ступени), могут быть использованы для описания реального процесса роста обширного класса различных многокомпонентных кристаллических соединений, используемых в промышленности, и как следствие, позволят оптимизировать ростовые условия для таких соединений, ведь наиболее низкодефектные кристаллы и тонкие плёнки чаще всего растут при низких пересыщениях именно в рассматриваемых послойных режимах роста. Отметим, что поскольку рост кристаллов и тонких плёнок в настоящее время является многомиллиардной индустрией, оптимизация процессов роста, на взгляд автора, имеет большую общественную значимость.


 

ОТЧЁТНЫЕ МАТЕРИАЛЫ


Аннотация результатов, полученных в 2021 году
В рамках работы над проектом в 2021-2022 году были рассмотрены некоторые из актуальных ростовых механизмов и различные сопутствующие эффекты, влияющие на рост и морфологию многокомпонентных кристаллов и тонких плёнок, столь востребованных в современной полупроводниковой технологии. В частности, детально изучен ростовой механизм Гилмера-Геза-Кабреры - механизм роста кристалла из собственных паров или раствора, при котором вещество может поступать к ступени на поверхности кристалла согласованным образом как за счет диффузии по поверхности, так и из объема. Кроме того, исследована роль и описан вклад поверхностных вакансий в протекание ростового процесса многокомпонентного кристалла. В ходе проекта математический аппарат, разработанный ранее для описания этих явлений в однокомпонентных системах, был расширен и доработан для описания роста многокомпонентных некосселевских кристаллов. Аналитически найдены зависимости скорости продвижения ступеней на поверхности кристалла и скорости его роста от пересыщения каждого компонента и их свойств: коэффициентов диффузии, стехиометрического коэффициента и равновесной концентрации. Показано, что процесс определяется тем компонентом, который имеет наименьшее произведение равновесной концентрации и коэффициента диффузии. Установлено, что рекомбинация адвакансий и адатомов может, с одной стороны, уменьшать суммарную поверхностную концентрацию адатомов и их поток в сторону ступени, а с другой стороны, вызывать поток адвакансий от ступени в сторону террасы. Полученные результаты и аналитические выражения позволяют описать рост произвольного многокомпонентного кристалла с учетом упомянутых выше механизмов и явлений, и могут быть использованы для анализа и объяснения обширных существующих экспериментальных данных, а также для дальнейшего развития теории роста кристаллов. С практической точки зрения, полученные результаты создают более полную картину ростового процесса и предоставляют новые аналитические критерии, позволяющие оценить вклад того или иного изученного явления в рост кристалла. Всё это открывает более широкие возможности для выбора оптимальных ростовых условий с целью получения гладких и низкодефектных многокомпонентных кристаллов и тонких плёнок для нужд электроники и оптоэлектроники. В частности, в рамках работы сделаны некоторые оценки для кристаллов нитрида галлия, которые широко используются в настоящее время при производстве светодиодов или HEMT-транзисторов.

 

Публикации

1. Редьков А.В., Кукушкин С.А. Theoretical aspects of the growth of a non-Kossel crystal from vapours: role of advacancies Faraday Discussions, В обработке, пока присвоен только doi (год публикации - 2021) https://doi.org/10.1039/D1FD00083G

2. Редьков А.В., Кукушкин С.А. Steps as a tool for self-organization of nanoislands during step-flow growth of a multicomponent crystal Abstract book. 22nd American Conference on Crystal Growth and Epitaxy (ACCGE-22) and 20th US Workshop on Organometallic Vapor Phase Epitaxy (OMVPE-20), стр. 384 (год публикации - 2021)


Аннотация результатов, полученных в 2022 году
В отчетном периоде (2022-2023 года) были продолжены работы по изучению различных явлений и эффектов, возникающих при росте некосселевских кристаллов, востребованных в современной электронике, а также по расширению теоретического задела на многокомпонентные системы. Были проанализированы: рост кристалла в слоисто-спиральном режиме при повышенных пересыщениях; влияние на процесс роста барьеров Швобеля, различных для каждого компонента. Также было проведено численное моделирование ростовых форм и режимов для широкозонных полупроводников, таких как нитрид галлия, карбид кремния, нитрид алюминия. В результате работы показано, что одно из классических приближений в модели Бартона-Кабреры-Франка (заключающееся в том, что характерные времена передвижения атомных ступеней по поверхности кристалла можно считать значительно большими, чем время установления равновесного распределения адатомов по поверхности) в многокомпонентных системах во многих случаях оказывается несправедливым. Найдены выражения для скорости слоисто-спирального роста кристаллов с учетом этого явления. Помимо этого, построены математические модели роста многокомпонентного кристалла, с учетом неэквивалентного встраивания атомов разных типов в ступени с верхней и нижней террас (обусловленного различными барьерами Швобеля) и также найдены аналитические решения для уравнений, описывающих рост кристалла. Продемонстрировано, что учет этого эффекта позволяет выявить и объяснить различные новые типы неустойчивостей поверхности. В частности, показано, что этот эффект также может в некоторых случаях приводить к нуклеации зародышей чистых компонентов в области за движущейся ступенью. Кроме того, эти барьеры обуславливают гистерезис в зависимости скорости роста и растворения от пересыщения. В части работ, посвященных численному моделированию роста кристаллов, была исследована зависимость ростовых форм кристаллов широкозонных полупроводников (GaN, AlN SiC) различных политипов от ростовых условий (температура, общее пересыщение, соотношение концентраций компонентов в газовой фазе) в широком диапазоне изменения последних. Составлена карта форм и условий роста. Полученная информация о формах и ростовых режимах при различных соотношениях компонентов может быть полезна при анализе ростовых процессов эпитаксиальных тонких плёнок, поскольку от соотношения пересыщений, как показывает моделирование, меняется равновесная термодинамическая форма кристаллов и зародышей на подложке. Эта форма, в свою очередь, влияет на работу образования зародыша, скорость нуклеации, и, как следствие общую скорость роста пленки. Кроме того, для каждого из типов кристаллов определены диапазоны условий, при которых реализуются различные механизмы роста: спиральный рост, мононуклеарный рост, полинуклеарный рост. Анимация некоторых численных результатов, в том числе ростовых режимов, полученных методом Монте-Карло в пакете Crystal Grower и в собственном разработанном программном пакете доступны по ссылкам: формы кристаллов (CrystalGrower) – https://youtu.be/s2O15QtA4PM; устойчивый рост вицинальной поверхности кристалла с учетом поверхностной кинетики (когда морфология сохраняется со временем) – https://www.youtube.com/watch?v=fGZmBYkufBw; неустойчивый рост (морфология меняется со временем) – https://www.youtube.com/watch?v=_WA5TYfPX_4 Полученные в этом году результаты могут быть использованы при анализе и объяснении различных экспериментальных данных по росту многокомпонентных кристаллов. В частности, особое внимание в проекте уделено актуальным для современной микроэлектроники полупроводникам, таким как: нитрид галлия, нитрид алюминия, карбид кремния, и многие из разработанных теорий апробированы и применены для описания их режимов роста. Отметим, что разработанная в рамках настоящего проекта первая версия программного пакета для высокопроизводительного моделирования роста кристаллов на графических ускорителях методом Монте-Карло в сочетании с методом клеточных автоматов, впервые показала принципиальную возможность перехода к новому типу исследования процесса роста кристаллов, при котором используется генеративный подход в сочетании с методами машинного обучения.

 

Публикации

1. Редьков А.В. Spiral Growth of Multicomponent Crystals: Theoretical Aspects Frontiers in Chemistry, Redkov A. (2023), Spiral growth of multicomponent crystals: theoretical aspects. Front. Chem. 11:1189729. doi: 10.3389/fchem.2023.1189729 (год публикации - 2023) https://doi.org/10.3389/fchem.2023.1189729

2. Редьков А.В., Кукушкин С.А. Влияние кинетики атомных ступеней на рост многокомпонентных кристаллов в условиях повышенных пересыщений Письма в Журнал технической физики, - (год публикации - 2023)

3. Редьков А.В, Чистиков И.Е., Кукушкин С.А. Подходы к выбору технологических условий для получения атомно-гладких полупроводниковых тонких плёнок Сборник тезисов "Российский Форум Микроэлектроника 2022", Сборник тезисов "Российский Форум Микроэлектроника 2022" Техносфера, Москва, 2022, стр. 610 (год публикации - 2022)

4. А.В. Редьков Программа для моделирования роста и морфологии поверхности кристаллов -, 2022666873 (год публикации - )


Возможность практического использования результатов
Результаты проекта могут быть полезны с прикладной точки зрения, поскольку разработанная теория и полученные аналитические выражения могут быть применены для описания широкого спектра реальных ростовых процессов и различных многокомпонентных кристаллических соединений, востребованных в индустрии, начиная от микро- и оптоэлектронных применений (в частности III-нитридов), и завершая кристаллами для оптики, фотоники, и многого другого. Теоретическое понимание всех процессов, происходящих при росте, а также знание ключевых зависимостей позволит существенно сократить время оптимизации ростового процесса/подбора ростовых параметров. Поскольку рост кристаллов и тонких плёнок в настоящее время является многомиллиардной индустрией, это, на взгляд авторов, имеет большую общественную значимость. Кроме того, результаты будут полезны и с фундаментальной точки зрения, поскольку расширяют имеющийся теоретический задел в области роста кристаллов на многокомпонентные системы, и демонстрируют новые эффекты и явления, обусловленные наличием нескольких компонентов. Эти явления могут оказать существенное влияние на скорость роста кристалла и представляется важным понимание, когда и при каких условиях они возникают и как ими управлять. Отметим также, что результаты, полученные в рамках настоящего проекта, подтолкнули авторов к разработке первой версии программного пакета для высокопроизводительного ab initio моделирования роста кристаллов на графических ускорителях, которая впервые показала принципиальную возможность перехода к новому типу исследования процесса роста кристаллов, при котором используется генеративный подход в сочетании с методами машинного обучения. В перспективе развитие этого подхода поможет существенно сократить время внедрения новых материалов в технологические цепочки (детальное описание см. в заявке РНФ 23-72-10019).