КАРТОЧКА ПРОЕКТА ФУНДАМЕНТАЛЬНЫХ И ПОИСКОВЫХ НАУЧНЫХ ИССЛЕДОВАНИЙ,
ПОДДЕРЖАННОГО РОССИЙСКИМ НАУЧНЫМ ФОНДОМ

Информация подготовлена на основании данных из Информационно-аналитической системы РНФ, содержательная часть представлена в авторской редакции. Все права принадлежат авторам, использование или перепечатка материалов допустима только с предварительного согласия авторов.

 

ОБЩИЕ СВЕДЕНИЯ


Номер 22-19-00166

НазваниеФизические основы технологии ионно-лучевой обработки оксида галлия для создания приборов силовой электроники

РуководительТитов Андрей Иванович, Доктор физико-математических наук

Организация финансирования, регион федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого", г Санкт-Петербург

Период выполнения при поддержке РНФ 2022 г. - 2024 г. 

Конкурс№68 - Конкурс 2022 года «Проведение фундаментальных научных исследований и поисковых научных исследований отдельными научными группами».

Область знания, основной код классификатора 09 - Инженерные науки, 09-710 - Новые материалы для наноэлектронных приборов

Ключевые словаШирокозонные полупроводники, оксид галлия, Ga2O3, ионно-лучевые технологии, радиационные дефекты, повреждения структуры, каскад смещений, топография поверхности, приборы силовой электроники

Код ГРНТИ29.19.21


 

ИНФОРМАЦИЯ ИЗ ЗАЯВКИ


Аннотация
Полупроводниковые приборы силовой электроники в настоящее время используются практически в каждойсистеме генерации и передачи электроэнергии. Около 13% вырабатываемой электроэнергии сегодня теряется в результате процессов переключения и преобразования, и поэтому повышение эффективности силовых устройств имеет решающее значение для глобальной экономии энергии. Из-за ограниченной доступности полупроводниковых переключателей в диапазоне ≥10 кВ в настоящее время для понижения высокого напряжения используются трансформаторы, эффективность которых невелика. Существует также острая потребность в новых полупроводниковых устройствах силовой электроники, которые будут работать в диапазоне до нескольких киловольт в таких передовых системах, как распределенные энергетические сети, электромобили, высокоскоростные поезда и промышленная автоматизация. В то же время, кремниевая электроника практически исчерпала возможности дальнейшего роста. Поэтому поиск новых и более эффективных полупроводниковых материалов, на основе которых можно превзойти обычные приборы являются весьма актуальным. На смену кремния постепенно приходят SiC и GaN, однако, технологические трудности ограничивают возможности достаточно дешевого массового производства силовых приборов на основе этих двух материалов. Из других основных кандидатов – группа оксидных полупроводников. Среди них большой интерес привлекает оксид галлия Ga2O3, – сверхширокозонный полупроводник (4.8-5.3 эВ), который обладает целым рядом свойств, потенциально позволяющих обеспечить значительный прорыв в области силовой электроники, создания нечувствительных к солнечному свету детекторов ультрафиолетового излученияи т.д. Кроме того, согласно появившимся в последние несколько лет в литературе сведениям, для Ga2O3 можно применять многие технологические приемы микроэлектроники. Это означает, что на его основе можно будет изготавливать комплексные силовые и СВЧ чипы. Одним из основных методов модификации свойств (селективное легирование, обработка поверхности и т.д.) полупроводниковых материалов являетсяионная имплантация. Использование этого метода весьма привлекательно и при создании электронных приборов на базе оксида галлия. Однако ионная бомбардировка всегда сопровождается образованием устойчивых структурных нарушений, которые драматически влияют на все их свойства. Это, в одних случаях, является серьезным препятствием, затрудняющим использование ионной имплантации, а, в других случаях, подобное изменение свойств при облучении ионами можно как раз использовать для модификации параметров материалов и изделий. Таким образом, исследование закономерностей образования нарушений кристаллической структуры и способов управления поведением дефектов (так называемой инженерии дефектов) в оксиде галлия является весьма актуальной задачей. Получение сведений о закономерностях образования и поведения нарушений структуры при ионном облучении, их влияния на процессы переноса заряда в двух наиболее перспективных политипах Ga2O3 (альфа и бета), и составляет один из предметов настоящего проекта. Эти сведения в настоящий момент ограничиваются дозовыми зависимостями накопления дефектов при облучении бета-Ga2O3 несколькими типами атомарных ионов при комнатной температуре. Для другого важного политипа – альфа-Ga2O3– вообще нет опубликованных данных. В ходе данного проекта будет выполнен цикл исследований по установлению закономерностей радиационно-индуцированных явлений в оксиде галлия в широком диапазоне условий ионного внедрения. Результаты подобных исследований позволят выяснить физическую природу образования радиационных нарушений. Работы будут проводиться как для бета-фазы оксида галлия, которая является единственной стабильной фазой этого материала, так и для альфа-фазы, которая, хотя и является метастабильной, но ее переход в бета-фазу при атмосферном давлении происходит при достаточно высокой температуре, которую можно еще повысить, формируя тройное соединение (Ga1-xAlx)2O3с малым (< 2.5%) содержанием алюминия. Облучение будет производиться как атомарными, так и молекулярными ионами. При этом для корректного сравнения результатов будут выполняться разработанные нами условия ионного облучения. Все эти исследования должны привести к формированию физической картины накопления нарушений, выяснению закономерностей поведения в нем структурных нарушений, объяснение физики процессов, сопровождающих торможение ионов и, как следствие, выработку рекомендаций для практических приложений. Кроме того, из результатов предполагаемых исследований будут получены сравнительные данные о радиационной стойкости разных политипов оксида галлия, что весьма актуально для создания приборов способных работать в условиях повышенной радиации. Вторая цель данного проекта направлена на практическую реализацию фундаментальных знаний. На основе полученных данных будут созданы модельные структуры силовых приборов и исследованы возможности использования ионно-лучевой технологии для создания приборов силовой электроники на основе оксида галлия.

Ожидаемые результаты
В результате проведения работ по проекту будут установлены закономерности и разработаны пути управления формированием и отжигом радиационных дефектов в широкозонном полупроводниковом кристалле - оксиде галлия. В частности, будут впервые в мире получены нижеследующие оригинальные результаты. 1. Изучен процесс формирования структурных нарушений, распределений дефектов по глубине и их трансформации при изменении дозы и энергии в Ga2O3, имплантируемом атомарными и молекулярными ионами разных типов и энергий, при соблюдении корректных условий облучения. Получены экспериментальные данные о кинетике радиационного изменения топографии поверхности и свеллинге приповерхностных слоев при облучении оксида галлия подобными ионами и количественные характеристики дозовых зависимостей этих явлений. Исследовано влияние плотности индивидуальных каскадов смещений и плотности потока атомарных и молекулярных ионов на эффективность введения радиационных нарушений в важнейшие политипы оксида галлия и на эффективность молекулярного эффекта. 2. Выполнено количественное сравнение эффективностей радиационного повреждения различных политипов оксида галлия при их облучении тяжелыми ионами, а также и возможностей термоотжига радиационных дефектов в этих политипах. 3. Сформулированы и развиты представления о физических механизмах, которые управляют накоплением радиационных нарушений в оксиде галлия при бомбардировке ускоренными ионами. Выяснена относительная роль обнаруженных механизмов формирования дефектов при имплантации ионов в различные политипы Ga2O3. 4. Выявлены связи между электрическими характеристиками образцов и режимами формирования и отжига радиационных дефектов. 5. Отработаны методики и созданы модельные структуры приборов силовой электроники на основе Ga2O3, исследование которых позволит предложить эффективные технологии изготовления приборов на основе оксида галлия с применением ионной имплантации. Предполагаемые результаты будут полностью соответствовать мировому уровню, поскольку (1) для повышения эффективности приборов силовой электроники требуются новые широкозонные полупроводниковые материалы, и оксид галлия является одним из признанных перспективных кандидатов; (2) уровень исследований и степень понимания радиационно-стимулированных процессов в Ga2O3 находится в зачаточном состоянии; (3) в проекте предполагается использовать комплекс взаимно дополняющих экспериментальных, теоретических и расчетных методик исследования процессов, происходящих при бомбардировке быстрыми ионами. В ходе работ будет получена информация о механизмах накопления и отжига радиационно-стимулированных явлений в новом перспективном полупроводниковом материале, информация о его радиационной стойкости. Это обеспечит составление согласованной картины ионно-стимулированного образования структурных нарушений, выявление направлений инженерии дефектов. Полученный комплекс результатов открывает возможность эффективной ионно-лучевой модификации свойств данного полупроводника и позволит создавать эффективные приборы силовой электроники на основе Ga2O3. Помимо этого, полученные данные позволят судить о радиационной стойкости оксида галлия и приборов на его основе, что необходимо для их применения в космических аппаратах и на ядерных станциях.


 

ОТЧЁТНЫЕ МАТЕРИАЛЫ


Аннотация результатов, полученных в 2022 году
Основная цель проекта выяснение закономерностей накопления и отжига радиационных нарушений структуры в двух политипах оксида галлия (альфа и бета) и исследование физической природы обнаруженных явлений в широком диапазоне условий бомбардировки ускоренными ионами. Одним из основных направлений исследований нашего проекта является изучение эффектов, ход которых зависит от плотности каскадов смещений, которые образуются вдоль треков ионов. Очевидно, что для проведения подобных исследований следует, во-первых, получить информацию о генерации первичных дефектов используемыми ионами в изучаемых материалах, и, во-вторых, рассчитать плотность усредненных индивидуальных каскадов, разработав метод ее расчета. Первая задача была решена с использованием стандартной программы TRIM, а для решения второй, весьма непростой задачи, была использована разработанная нами уникальная программа. Выполнены исследования зависимости накопления структурных нарушений при имплантации атомарных ионов разных масс и молекулярных ионов в Ga2O3 как для альфа, так и для бета фаз, при разных энергиях и соблюдении корректных условий облучения. Экспериментально, с помощью резерфордовского обратного рассеяния быстрых ионов гелия (RBS/C), получены распределения структурных нарушений по глубине при облучении атомарными и молекулярных ионов с рядом энергий в образцы как бета-, так и альфа-оксида галлия. Отметим, что это первые опубликованные в литературе результаты по ионному повреждению альфа-Ga2O3, а данные по накоплению нарушений структуры оксида галлия молекулярными ионами также получены впервые в мире. Установлено, что метастабильный полиморф альфа-Ga2O3 является существенно более радиационно-стойким, чем бета-Ga2O3: доза ионов, необходимая для достижения примерно одинакового уровня разупорядочения отличается для них примерно в 10 раз. Показано, что рост плотности усредненных индивидуальных каскадов столкновений внедряемых ионов за счет перекрытия индивидуальных каскадов смещений, создаваемых частицами, составлявшими молекулу, приводит к существенному увеличению эффективности накопления устойчивых нарушений вблизи поверхности мишени в альфа и бета политипах оксида галлия. Впервые в мире экспериментально продемонстрировано (методом XRD), что плотность каскадов смещений также заметно влияет и на величину упругих механических напряжений, формируемых в полупроводниках при ионном облучении бета-Ga2O3. Впервые экспериментально доказано, что величиной упругих напряжений в области объемного пика структурных нарушений (ОМД) в Ga2O3 можно управлять, изменяя уровень повреждения у самой поверхности образца. Указанная возможность иллюстрируется дополнительным повреждением приповерхностного бомбардировкой ионами никеля сравнительно малой энергии в слои бета-оксида галлия с предварительно созданными дефектами. Из приведенного выше экспериментального результата можно сделать практически важный вывод: поскольку переход из одной полиморфной фазы оксида галлия в другую во-многом определяется упругими напряжениями, изменяя уровень повреждения оксида у поверхности, можно будет управлять полиморфными превращениями в объеме, используя, в частности, облучение атомарными/молекулярными ионами разной массы и состава. Экспериментально показано, что облучение ионами вплоть до доз порядка 7 СНА, несмотря на существенное накопление повреждений структуры мишени, не приводит к заметному изменению топографии поверхности. Установлено, что в пределах чувствительности метода комбинационного рассеяния света не происходит изменение фазового состава мишени после облучения до тех же доз. Разработаны и реализованы алгоритмы моделирования событий, происходящих при падении ускоренного иона на открытую поверхность мишени методом молекулярной динамики. Проверена их работоспособность на тестовой системе (взаимодействие ускоренного иона фуллерена с поверхностью кремния). Найден подход к моделированию межатомных взаимодействий в бета-оксиде галлия. Начата разработка программной оболочки, позволяющей создавать скрипты и проводить моделирование в среде LAMMPS с использованием удобных и наглядных графических средств. Разрабатываемая оболочка призвана существенно облегчить ознакомление и использование пакета LAMMPS, особенно для новых пользователей предоставляя им интуитивный графический интерфейс и богатый набор подсказок.

 

Публикации

1. Азаров А., Венкатачалапати В., Карасев П., Титов А., Карабешкин К., Стручков А., Кузнецов А. Interplay of the disorder and strain in gallium oxide. Scientific Reports, Volume 12, Issue 1, December 2022, Номер статьи 15366 (год публикации - 2022) https://doi.org/10.1038/s41598-022-19191-8

2. Карасев К.П., Стрижкин Д.А., Карасев П.А. Convenient Way to Create an MD Model of a Hot Crystal with an Open Surface IEEE Xplore Proceedings of the International Conference on Electrical Engineering and Photonics (EExPolytech), IEEE Xplore Proceedings, 2022, pp. 242-245 (год публикации - 2022) https://doi.org/10.1109/EEXPOLYTECH56308.2022.9950888

3. Карасев П.А., Карабешкин К.В., Стручков А.И., Печников А.И., Николаев В.И., Андреева В.Д., Титов А.И. Накопление структурных нарушений при облученииα-Ga2O3 ионами P и PF4 Физика и техника полупроводников, том 56, вып. 9, стр. 882-887 (год публикации - 2022) https://doi.org/10.21883/FTP.2022.09.53409.9928


Аннотация результатов, полученных в 2023 году
Второй этап проекта является естественным продолжением предыдущего и посвящен, в первую очередь, дальнейшему исследованию закономерностей накопления радиационных нарушений структуры при имплантации ионов в два политипа оксида галлия (альфа и бета). Хотя Ga2O3 вызывает большой интерес как материал, пригодный для создания электронных приборов высокой мощности и оптоэлектронных приборов нового поколения, понимание механизмов, которые сопровождают подобную имплантацию, находится на достаточно ранней стадии. В то время, как для β фазы Ga2O3, которая является стабильной, выполнен относительно большой объем исследований, процессы при внедрении ионов в альфа – фазу требуют ещё весьма серьёзного изучения. Следует отметить, что хотя эта фаза является метастабильной с температурой перехода около 600оС, есть все основания полагать, что этот материал может найти также широкое применение, поскольку он потенциально обладает рядом существенных преимуществ. К основным достижениям второго этапа проекта следует отнести нижеследующее. Получены оригинальные экспериментальные данные, позволяющие анализировать кинетику накопления структурных повреждений, которые создаются при облучении оксида галлия при комнатной температуре ускоренными тяжелыми ионами и продолжено изучение эффектов при имплантации как атомарными, так и молекулярными ионами. При этом обнаружены необычные особенности в формировании распределения стационарных нарушений в альфа-оксиде галлия, в частности, дополнительный максимум дефектов (для специальных случаев облучения легкими ионами) в объеме и аморфизация поверхностного слоя (при облучении ионами ксенона), которая ранее в оксиде галлия не наблюдалась. Начаты исследования зависимости хода накопления радиационных повреждений в зависимости от плотности тока ионного пучка или, точнее, плотности потока ионов. При внедрении ускоренных ионов фосфора обнаружена, хотя и не очень сильная, зависимость. Это означает, что, по крайней мере в этом случае, определённую роль в накоплении радиационных повреждений в альфа-Ga2O3 играют нелинейные процессы вторичного дефектообразования. В целом ряде практических приложений необходима последовательная со-имплантация ионов с разной энергией. Например, в случаях, когда при изготовлении приборов требуется создание достаточно сложных профилей распределения внедряемых атомов, которые невозможно реализовать однократным облучением. В проекте в первые в мире экспериментально показано, что при подобной со-имплантации ионов примеси в оксид галлия для интегрального распределения стабильных дефектов не выполняется аддитивность и коммутативность. Другими словами, если провести имплантацию каждым типом ионов, то при комбинированном облучении результирующее распределение не является простой суммой таких профилей. Кроме того, результирующее распределение дефектов, а также и их интегральное количество существенно зависят от последовательности, в которой производится имплантация с каждой энергией. Оценка плотности усреднённых каскадов столкновений позволяет предсказывать влияние этого параметра на эффективность радиационного повреждения. Вот почему для всех случаев облучения нами был проведен расчет плотности усреднённых каскадов столкновений по разработанной нами оригинальной методике и эти результаты сопоставлены с результатами подобных расчётов по методу, развитому в Ливерморской национальной лаборатории (США). Оказалось, что обе методики качественно одинаково предсказывают влияние данного параметра. Доказано, что каскады смещений, которые создаются бомбардирующими ионами, являются в бета-оксиде галлия фракталами. Использованный метод позволяет определить размерность этих фракталов, что и было сделано для нескольких случаев. Высказано предположение, что в дальнейшем фрактальная размерность сможет послужить в качестве критерия плотности каскадов. Экспериментально, методом атомно-силовой микроскопии установлено, что поверхность альфа-оксида галлия существенно более стабильна, чем поверхность GaN. Даже при чрезвычайно высокодозном облучении шероховатость поверхности альфа-Ga2O3 практически не изменяется независимо от типа ионов. Свеллинг модифицируемого ионами слоя не превосходит нескольких нанометров и более ярко выражен для тяжелых атомарных ионов, чем для молекулярных с той же массой. Разработана графическая оболочка и набор специальных приложений, предназначенных для ознакомления и использования пакета LAMMPS. Такой подход особенно полезен для новых пользователей, поскольку предоставляет им интуитивный графический интерфейс с богатым набором подсказок на основе файлов описания среды. Реализован рекурсивно-итерационный алгоритм поиска пороговой энергии смещения атомов, на основе нескольких других методов: метод определения дефектов по Вороному-Дирихле, бинарный поиск значений, моделирование методом молекулярной динамики. МД моделирование проводилось с помощью свободно распространяемого пакета LAMMPS. Проведена верификация работы алгоритма на примере поиска пороговой энергии смещения атомов кремния. Разработан набор масштабируемых и автоматизированных методов анализа свойств мишени после воздействия ускоренного иона.

 

Публикации

1. Карасев К.П., Стрижкин Д.А., Карасев П.А. The Way to Analyse MD Simulation Results of Cluster Ion Bombardment IEEE Xplore Proceedings of the International Conference on Electrical Engineering and Photonics (EExPolytech 2023), c.282-284 (год публикации - 2023) https://doi.org/10.1109/EEXPOLYTECH58658.2023.10318713

2. Карасев К.П., Стрижкин Д.А., Титов А.И., Карасев П.А. Molecular-Dynamics Simulation of Silicon Irradiation with 2–8 keV C60 Fullerene Ions Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования., номер 1, стр. 74–79 (год публикации - 2023) https://doi.org/10.1134/S102745102301010X

3. Клевцов А.И., Карасев П.А., Карабешкин К.В., Титов А.И. ОСОБЕННОСТИ НАКОПЛЕНИЯ СТРУКТУРНЫХ НАРУШЕНИЙ ПРИ ИМПЛАНТАЦИИ ИОНОВ РАЗНЫХ МАСС В АЛЬФА-ОКСИД ГАЛЛИЯ ПРИ МАЛЫХ УРОВНЯХ ПОВРЕЖДЕНИЯ НТВ СПбГПУ. Физико-математические науки, том 16, номер 4, 2023 год (год публикации - 2023)

4. Стручков А.И, Карабешкин К.В., Карасев П.А., Титов А.И. Анализ параметров индивидуальных каскадов столкновений при облучении Ga2O3 атомарными и молекулярными ионами Физика и техника полупроводников, - (год публикации - 2023)

5. Стручков А.И., Титов А.И., Клевцов А.И., Карабешкин К.В., Федоренко Е.Д., Андреева В.Д., Шахмин А.Л., Печников А.И., Николаев В.И., Карасев П.А. RADIATION DAMAGE ACCUMULATION IN α-Ga2O3 UNDER keV ION BOMBARDMENT ТРУДЫ МЕЖДУНАРОДНОЙ 26 КОНФЕРЕНЦИИ "ВЗАИМОДЕЙСТВИЕ ИОНОВ С ПОВЕРХНОСТЬЮ", том1, с.211-213 (год публикации - 2023)

6. А.И. Стручков, Я.Г. Горне, К.В. Карабешкин, П.А, Карасев, А.И. Титов Фрактальный анализ характеристик каскадов столкновений в Ga2O3 ТЕЗИСЫ ДОКЛАДОВ 52-й международной Тулиновской конференции ПО ФИЗИКЕ ВЗАИМОДЕЙСТВИЯ ЗАРЯЖЕННЫХ ЧАСТИЦ С КРИСТАЛЛАМИ (2023 г.), номер 51, с.57 (год публикации - 2023)

7. Е.Д. Федоренко, П.А. Карасев МОДИФИКАЦИЯ ПОВЕРХНОСТНЫХ СВОЙСТВ α-Ga2O3 ОБЛУЧЕНИЕМ УСКОРЕННЫМИ ИОНАМИ Физика полупроводников и наноструктур, полупроводниковая опто- и наноэлектроника: тезисы докладов Всероссийской научной молодежной конференции, с.24 (год публикации - 2023)

8. Клевцов А.И., Стручков А.И., Федоренко Е.Д., Карабешкин К.В., Карасев П.А., Титов А.И. СРАВНЕНИЕ ХАРАКТЕРА НАКОПЛЕНИЯ ПОВРЕЖДЕНИЙ В α-Ga2O3 ПРИ ОБЛУЧЕНИИ ИОНАМИ P, PF4 И Xe ТЕЗИСЫ ДОКЛАДОВ 52-й международной Тулиновской конференции ПО ФИЗИКЕ ВЗАИМОДЕЙСТВИЯ ЗАРЯЖЕННЫХ ЧАСТИЦ С КРИСТАЛЛАМИ, номер 52, с.115 (год публикации - 2023)