КАРТОЧКА ПРОЕКТА ФУНДАМЕНТАЛЬНЫХ И ПОИСКОВЫХ НАУЧНЫХ ИССЛЕДОВАНИЙ,
ПОДДЕРЖАННОГО РОССИЙСКИМ НАУЧНЫМ ФОНДОМ

Информация подготовлена на основании данных из Информационно-аналитической системы РНФ, содержательная часть представлена в авторской редакции. Все права принадлежат авторам, использование или перепечатка материалов допустима только с предварительного согласия авторов.

 

ОБЩИЕ СВЕДЕНИЯ


Номер проекта 21-12-00299

НазваниеОборванные связи кремния на галогенированной поверхности Si(100) в качестве одноатомных квантовых точек

Руководитель Павлова Татьяна Витальевна, Кандидат физико-математических наук

Организация финансирования, регион Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Федеральный исследовательский центр "Институт общей физики им. А.М. Прохорова Российской академии наук" , г Москва

Конкурс №55 - Конкурс 2021 года «Проведение фундаментальных научных исследований и поисковых научных исследований отдельными научными группами»

Область знания, основной код классификатора 02 - Физика и науки о космосе; 02-203 - Поверхность и тонкие пленки

Ключевые слова оборванные связи кремния, полупроводники, поверхность, галогены, кремний, одноатомные квантовые точки, сканирующий туннельный микроскоп

Код ГРНТИ29.19.22


 

ИНФОРМАЦИЯ ИЗ ЗАЯВКИ


Аннотация
Продолжающаяся миниатюризация электронных устройств требует уменьшения размеров их активной области. Электрические, магнитные и оптические свойства квантовых точек открывают привлекательную возможность как для разработки новых электронных устройств, так и для фундаментальных исследований физики конденсированных сред. Данный проект направлен на решение проблемы уменьшения размеров квантовых точек за счет развития твердотельных квантовых структур размером с атом. Актуальность решения проблемы определяется необходимостью создания более компактных, более производительных и энергоэффективных электронных устройств. Оборванные связи кремния (DBs, dangling bonds) представляют собой квантовые точки, поскольку имеют три различных зарядовых состояния (положительное, нейтральное и отрицательное) в зависимости от заполнения уровней электронами (ноль, один или два электрона, соответственно). Энергетические уровни DB лежат в запрещенной зоне кремния и практически изолированы от объемных состояний. Оборванные связи на атомах Si приближаются к предельно малому размеру квантовой точки, следовательно, имеют преимущества перед квантовыми точками обычного размера. Во-первых, все DB идентичны, и неоднородности обусловлены только локальным окружением, которое в принципе можно эффективно минимизировать. Во-вторых, расстояние между энергетическими уровнями у них больше, что снижает требования к рабочей температуре. Оборванные связи кремния изучаются в контексте приложений наноэлектроники [Nat. Electron. 1, 636 (2018)], в качестве сенсора для исследования неизвестных заряженных дефектов вблизи поверхности [ACS Nano 13,10566 (2019)]. Более того, зарядовые и спиновые состояния DB рассматриваются в качестве кубитов для квантовых вычислений [New J. Phys. 12, 083018 (2010)]. DB также используются для внедрения фосфора в кремний с почти атомной точностью, для создания кубитов на электронных спинах примеси [Nature 571, 371 (2019)]. В мире в основном проводятся исследования оборванных связей Si в вакансиях H на поверхности Si(100)-2x1-H. Разработаны методы создания вакансий Н с атомной точностью в сканирующем туннельном микроскопе (СТМ) [Nanotechnology, 28, 075302 (2017)], залечивания ошибочно созданных вакансий [Nat. Comm. 9, 2778 (2018)], измерения и изменения зарядовых состояний DB в СТМ [Phys. Rev. B 88, 241406(R) (2013)] и nc-AFM [Phys. Rev. Lett. 121, 166801 (2018)]. Целью проекта является развитие направления одноатомных квантовых точек, для чего предлагается изучить новый вид – оборванные связи Si на галогенированной поверхности кремния. Для достижения поставленной цели в проекте предлагается решить следующие задачи: 1) Создание одноатомных квантовых точек из оборванных связей кремния методом СТМ-литографии по резисту из хемосорбированного монослоя галогенов на поверхности Si(100)-2x1. 2) Изучение зарядовых состояний оборванных связей кремния и манипулирования ими. 3) Реализация туннелирования между парой одноатомных квантовых точек для последующего моделирования молекулярных структур («искусственных молекул») из систем взаимодействующих точек. 4) Исследование взаимодействия газов с легирующей примесью (на примере PX3, где X=Br, Cl, I) с нейтральными и заряженными оборванными связями кремния на галогенированной поверхности Si(100)-2x1 с целью создания одноатомных квантовых точек другого типа – из примесных атомов, которые можно эффективно изолировать от внешних воздействий, закрыв слоем эпитаксиального кремния. Научная новизна настоящего проекта определяется созданием одноатомных квантовых точек на галогенированной поверхности Si(100)-2x1. Использование галогенов позволит расширить применение DB на галогенированную поверхность Si(100), используемую в технологии производства микросхем. Более того, внедрение примесей в кремний с использованием DB на Si(100)-2x1-H ограничено существованием гидридов только P и As (при комнатной температуре), но не других важных примесей, таких как Er, Al, B и др. Однако существуют галогениды указанных примесей, поэтому применение резиста из галогенов откроет возможность встраивания новых примесей в кремний. Благодаря большему радиусу атомов галогенов по сравнению с H, электронная плотность DB на галогенированной поверхности Si(100)-2x1 будет меньше «выступать» над поверхностью и можно в деталях изучить зарядовые состояния DB в СТМ. Таким образом, одноатомные квантовые точки в виде DB на галогенированной поверхности Si(100)-2x1 являются интересными объектами для изучения физических явлений и перспективны для создания на поверхности кремния электронных схем атомного масштаба.


 

ОТЧЁТНЫЕ МАТЕРИАЛЫ


 

Публикации

1. Павлова Т.В., Ельцов К.Н. Reactivity of the Si(100)-2×1-Cl surface with respect to PH3, PCl3, and BCl3: Comparison with PH3 on Si(100)-2×1-H Journal of Physics: Condensed Matter, Volume 33, Number 38, Page 384001 (год публикации - 2021)
10.1088/1361-648X/ac1092


 

Публикации

1. Павлова Т.В., Шевлюга В.М. Vacancy diffusion on a brominated Si(100) surface: Critical effect of the dangling bond charge state The Journal of Chemical Physics, 157, 124705 (год публикации - 2022)
10.1063/5.0102546

2. Павлова Т.В., Шевлюга В.М. Диффузия заряженных вакансий на поверхности Si(100)-2×1-Br Нанофизика и наноэлектроника. Труды XXVI Международного симпозиума, Том 1, стр. 471 (год публикации - 2022)


 

Публикации

1. Шевлюга В.М., Воронцова Ю.А., Павлова Т.В. PBr3 Adsorption and Dissociation on the Si(100) Surface The Journal of Physical Chemistry C, The Journal of Physical Chemistry C, 127, 8978 (год публикации - 2023)
10.1021/acs.jpcc.3c00421

2. Шевлюга В.М., Воронцова Ю.А., Павлова Т.В. Встраивание фосфора в кремний при адсорбции PBr3 на Si(100) Труды XXVII Международного симпозиума Нанофизика и наноэлектроника, Том 1, стр.397-398 (год публикации - 2023)

3. Павлова Т.В., Шевлюга В.М. Enhancing the reactivity of Si(100)–Cl toward PBr3 by charging Si dangling bonds Journal of Chemical Physics, Vol.159, Issue 21, p 214701 (год публикации - 2023)
10.1063/5.0178757

4. Павлова Т.В., Шевлюга В.М., Андрюшечкин Б.В., Комаров Н.С. Halogen resists in Roadmap on Semiconducting atomic-scale devices Nano Futures (год публикации - 2024)

5. Павлова Т.В., Шевлюга В.М. PBr3 adsorption on a chlorinated Si(100) surface with mono- and bivacancies AIP Publishing, 160, 054701 (год публикации - 2024)
10.1063/5.0185671