Хлористый водород широко используют в промышленности, поскольку он помогает обеспечить чистоту и точность в производстве. Он хорошо удаляет загрязнения, которые могут приводить к образованию дефектов на кремниевых пластинах, а также применяется в процессах сухого и мокрого травления для создания мелких структур в транзисторах.
Но получить хлористый водород высокой степени чистоты (99,999%) достаточно сложно. Это вещество легко вступает в нежелательные реакции: один из наиболее популярных загрязнителей — это атомы кислорода из влаги (H2O). При извлечении хлороводорода из баллона, в котором он хранится, эта влага конденсируется на его стенках, из-за чего концентрация примесей в газе во время его использования оказывается переменной. Если же баллон высушивать, то вся влага выбрасывается на технологические линии, приводя к коррозии оборудования. Поэтому исследователи из ООО «Силтрон» будут дополнительно очищать хлористый водород адсорбентами цеолитов с нанесенными хлоридами металлов. Это позволит добиться уровня влаги в газе на уровне 100 частей на миллиард
Другой источник примесей в хлороводороде — металлы, атмосферные вещества и частицы в воздухе, с которыми газ вступает в реакцию, как только выходит из баллона. Специалисты из ООО «Силтрон» предлагают решить эту проблему, поставляя баллоны высокочистого хлористого водорода в комплекте с фильтрами тонкой очистки от механических примесей и адсорбционными фильтрами, которые помогут сохранить качество газа во время использования всего баллона.
В лаборатории. Источник: Пресс-служба РНФ
В результате выполнения работы должна быть описана технология получения особо чистого хлористого водорода, отработаны и оптимизированы методы, а также получены экспериментальные образцы. Команда проекта уже добилась успеха в рамках альфа/бета-версии, что позволило продолжить выпуск микросхем в России, а также в прошлом успешно завершила фундаментальные проекты по управляемому синтезу летучих гидридов, и теперь планирует выйти на мощность производства не менее 2 тонн в год.
Производство, которое будет создано на базе компании АО «Эпиэл», позволит отказаться от зарубежных особо чистых газов и позволит сделать отрасль микроэлектроники в России более независимой.
Руководитель проекта – Андрей Воротынцев, кандидат технических наук, ООО «Силтрон» (г. Москва)
Заказчик – АО «Эпиэл»
Прикладной проект «Разработка технологии получения особой степени чистоты (ОСЧ) хлористого водорода (HCl) 99,999 % (марка N5.0) для нужд предприятий микроэлектроники РФ» (№ 24-91-18001) поддержан грантом Российского научного фонда.
Карточки фундаментальных проектов:
https://rscf.ru/project/20-79-10097/
https://rscf.ru/project/17-73-20275/